关 键 字: 等离子废气净化设备,等离子废气处理,等离子废气处理报价 | |
产品规格: 1980*1275*1270 | |
所属行业: 废气净化设备 | 产品包装: 简易包装 |
供货数量: 100 | 产品报价: 28000 |
发布时间: 2019-04-11 | 有 效 期: 365 |
【行业基本情况】: 半导体产品可大致划分为三大类:分立器件、集成电路与光电组件,其中集成电路就占了半导体近九成的比重,可谓半导体产业的**所在。2000年以来,中国集成电路产业处于高速成长期。预计2008年-2010年这3年间,中国集成电路产业整体销售收入的年均复合增长率将达到23.6%。到2010年,中国集成电路产业销售收入将达到约2500亿元。预计2010年-2015年,我国将以年均近20%速度向前发展,产业规模达到约6000亿元,届时中国将成为世界重要电路制造基地之一。2007年,我国半导体企业总数达700家左右,其中IC设计业500多家,IC制造业30多家,封装测试业100多家。IC制造业企业已相对集中,主要分布在上海、北京、江苏、浙江等省市,长江三角洲地区成为中国集成电路重镇。 半导体分立器件厂家我国现有约200家。2007年分立器件产品的产量为2487.21亿元,比2006年增长11.8%;销售额835.1亿元,比2006年增长15.9%。到2010年我国半导体分立器件产业销售额将达到1300亿元。 根据2007年污普数据,广州市现有半导体企业16家,集成电路制造企业17家。据了解,目前广州市半导体企业大都为中小型组装部件企业,因此,本通告未将其纳入**监管范围。 【污染物排放】: 半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。挥发性**废气主要来源于光刻、显影、刻蚀及扩散等工序,在这些工序中要用**溶液(如异丙醇)对晶片表面进行清洗,其挥发产生的废气是**废气的来源之一;同时,在光刻、刻蚀等过程中使用的光阻剂(光刻胶)中含有易挥发的**溶剂,如醋酸丁酯等,在晶片处理过程中也要挥发到大气中,是**废气产生的又一来源。与半导体制造工艺相比,半导体封装工艺产生的**废气较为简单,主要为晶粒粘贴、封胶后烘烤过程产生的烘烤废气。 【控制要求】: 半导体制造工艺中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量**物成分。在工艺过程中,这些**溶剂大部分通过挥发成为废气排放。目前,**废气排放处理措施采用大风量低浓度,其处理一般采用吸附浓缩技术、等离子光解技术、或UV光解技术等等。 【半导体制造行业废气处理工艺】: 半导体制造行业废气预处理设备(根据具体项目及废气源实际工况,可能涉及到粉尘去除、水气分离、高温降温处理、油膏油脂去除、酸碱水雾去除等相应的预处理措施)等离子UV光解除臭废气净化器高排。http://LTHB1688.qiugouxinxi.net/
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